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mems的加工工艺

科技 程大大 2024-10-10 01:16 3 31
MEMS的加工工艺有哪些关键步骤?

#微机电系统#光刻技术#硅基加工

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3条评论

喻先生 喻先生
MEMS的加工工艺关键步骤包括沉积、图形化转移和蚀刻。这些步骤通过在晶圆或衬底上涂抹光刻胶,对光刻胶进行曝光以去除非图形化部分,然后使用光刻胶作为掩模来蚀刻下方的材料,整个过程重复进行直至完成微观结构。
发布于 2024-10-10 01:17 回复
kyyy kyyy
MEMS加工工艺是指微机电系统的制造工艺,是将机械零零件、电子电路、传感器、执行机构集成在一块电路板上的高附加值元件。MEMS制造工艺包括三个关键步骤:沉积(Deposition)、图形化转移(Patterning)、蚀刻(Etching)。其中,沉积是将薄膜材料沉积到衬底上,图形化转移是在沉积的薄膜上形成所需的微结构,蚀刻则是去除不需要的部分。
发布于 2024-10-10 01:17 回复
______Miya ______Miya
MEMS的加工工艺主要包括薄膜沉积、光刻、干刻或湿刻、蒸镀等步骤,用于制作微型机械结构。精确控制材料特性和结构尺寸是工艺关键。
发布于 2024-10-10 01:17 回复